Forniamo generatori RF, unità di adattamento, alimentatori DC e alimentatori DC pulsati ad alte prestazioni per soddisfare le diverse esigenze dei processi di deposizione, come CVD e PVD.
L'incisione è una fase chiave nella produzione dei semiconduttori e richiede una precisione di controllo del plasma estremamente elevata. La nostra esclusiva tecnologia innovativa può fornire sorgenti di alimentazione affidabili per i processi avanzati.
Con la crescente complessità dei progetti di chip, crescono anche i requisiti di controllo preciso dell'impiantazione ionica. I nostri prodotti di alimentazione garantiscono un controllo preciso dell'energia di impiantazione ionica grazie all'elevata densità di potenza e all'elevata precisione.
Con lo sviluppo dei processi semiconduttori avanzati, gli alimentatori per i processi di interconnessione devono affrontare nuove sfide e devono garantire ripple ultra-basso, uscita ad alta precisione e risposta dinamica rapida per assicurare la stabilità del processo e la resa produttiva.
La fase di rimozione del fotoresist serve a eliminare il fotoresist residuo per evitare che comprometta la precisione delle successive fasi di incisione, deposizione o impiantazione ionica. Un controllo preciso della potenza è fondamentale in questo processo.